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一、高真空電阻爐是專門為工業(yè)和研究應用而設計制造的，可應用于
■真空退火，脫氣和精煉
■金屬和陶瓷的燒結
■液相燒結和金屬浸漬
■真空釬焊和活性金屬釬焊
■真空材料測試
每個VRF爐的尺寸和配置是針對特定的工藝和應用，
如工作區(qū)尺寸、結構布局、真空系統(tǒng)、熱區(qū)和加熱電源。
高真空可通過擴散泵或渦輪分子泵機組來實現。
二、產品描述
■真空電阻加熱爐包括雙層水冷爐殼，水冷電極，加熱體，溫度測量裝置，冷卻水裝置，真空系統(tǒng)，電源和控制系統(tǒng)
■可選配強制快速循環(huán)冷卻裝置；脫蠟裝置和氣氛控制裝置。
■爐體采用立式或臥式結構設計；加熱控制區(qū)的數量最多可以達到6個（或更多），通過調整這些熱區(qū)的數量和布局可以獲得極佳的均溫性，部分爐型可以優(yōu)于±3℃。
■對于抽真空系統(tǒng)，可以使用不同類型的泵組和所有市場上的知名品牌；根據工藝要求，可以獲得的10Pa ~10-5Pa。
■PLC控制的程序順序可確保工藝的全自動化和可重復性、以及穩(wěn)定的產品質量。計算機操作界面和相應的數據處理系統(tǒng)可以滿足高可靠質量控制的要求。
三、產品特點：
■最高工作溫度 2800°C.
■有效體積從 1 升 到 1立方米 (可以更大，取決于客戶的需求)
■采用獨立加熱器分區(qū)加熱
■在有效空間內最佳的均溫性可以達到±3℃
■真空范圍可達到 1·10-5 mbar (1·10-3 Pa).
■能在惰性氣體（氬氣、氮氣或氦氣)環(huán)境下使用，也能采用安全可靠的措施在氫氣環(huán)境下使用
